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2018年中國(guó)中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀及發(fā)展前景分析
2018/3/11 14:31:11 來(lái)源:中國(guó)產(chǎn)業(yè)發(fā)展研究網(wǎng) 【字體:大 中 小】【收藏本頁(yè)】【打印】【關(guān)閉】
核心提示:在半導(dǎo)體行業(yè)的第三次景氣周期中,手機(jī)等消費(fèi)電子產(chǎn)品取代 PC 成為行業(yè)增長(zhǎng)的主要驅(qū)動(dòng)因素,中國(guó)是全球第一大消費(fèi)電子生產(chǎn)國(guó)和消費(fèi)國(guó),對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)品的需求逐年快速提升。在消費(fèi)電子產(chǎn)品需求的驅(qū)動(dòng)下,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)開(kāi)始向中國(guó)大陸轉(zhuǎn)移。如今中國(guó)已是全球半導(dǎo)在半導(dǎo)體行業(yè)的第三次景氣周期中,手機(jī)等消費(fèi)電子產(chǎn)品取代 PC 成為行業(yè)增長(zhǎng)的主要驅(qū)動(dòng)因素,中國(guó)是全球第一大消費(fèi)電子生產(chǎn)國(guó)和消費(fèi)國(guó),對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)品的需求逐年快速提升。在消費(fèi)電子產(chǎn)品需求的驅(qū)動(dòng)下,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)開(kāi)始向中國(guó)大陸轉(zhuǎn)移。如今中國(guó)已是全球半導(dǎo)體最大的銷售市場(chǎng)。半導(dǎo)體的銷售市場(chǎng)主要集中在亞太、北美和歐洲地區(qū),其中中國(guó) 2016 年半導(dǎo)體銷售額達(dá)到 1075 億美元,占全球市場(chǎng)份額的 31.7%, 其中集成電路產(chǎn)業(yè)銷售額 4335.5 億元,占全球份額的 23.6%, 已成全球最大的銷售市場(chǎng)。 在產(chǎn)業(yè)向中國(guó)轉(zhuǎn)移的背景下,中國(guó)半導(dǎo)體市場(chǎng)在國(guó)際市場(chǎng)中的分量和占比將進(jìn)一步提升。
中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)銷售額
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半導(dǎo)體銷售市場(chǎng)分布
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中國(guó)市場(chǎng)供需錯(cuò)配嚴(yán)重,集成電路已成最大進(jìn)口商品。 由于我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)起步晚,生產(chǎn)水平和生產(chǎn)能力難以滿足下游巨大的需求,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的供需存在嚴(yán)重的供需錯(cuò)配情況,高度依賴進(jìn)口。以集成電路為例, 2016 年我國(guó)集成電路產(chǎn)品需求達(dá)到 1.20 萬(wàn)億元,而國(guó)內(nèi)供給量?jī)H為 4335.5 萬(wàn)億元, 自給率僅為 36%,大量集成電路產(chǎn)品依靠進(jìn)口。當(dāng)年集成電路產(chǎn)品進(jìn)口金額達(dá)到 2296 億美元,已經(jīng)替代原油成為我國(guó)第一大進(jìn)口商品。
我國(guó)集成電路行業(yè)供需錯(cuò)配嚴(yán)重(單位:億元)
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我國(guó)每年進(jìn)口大量集成電路產(chǎn)品
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半導(dǎo)體生產(chǎn)流程涉及數(shù)百個(gè),甚至上千個(gè)工藝流程, 生產(chǎn)過(guò)程十分復(fù)雜,所需的設(shè)備種類、數(shù)量也很多。以集成電路為例,其生產(chǎn)流程主要分為 IC 設(shè)計(jì)、 IC 制造(前道) 、 IC 封測(cè)(后道) 三個(gè)環(huán)節(jié),設(shè)備需求主要集中在 IC 制造環(huán)節(jié),其次是 IC 封測(cè)環(huán)節(jié), IC 設(shè)計(jì)環(huán)節(jié)涉及的設(shè)備較少。
我們對(duì) IC 芯片制造的核心工藝流程和核心設(shè)備進(jìn)行了梳理,得到如下全景圖,我們將基于此圖詳解 IC 芯片的關(guān)鍵生產(chǎn)流程和核心設(shè)備。
IC 芯片制造核心工藝主要設(shè)備全景圖
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自半導(dǎo)體誕生以來(lái),半導(dǎo)體行業(yè)經(jīng)歷了三輪完整的發(fā)展周期:第一輪周期發(fā)生在 20 世紀(jì) 70 年代-90 年代,彼時(shí)半導(dǎo)體已經(jīng)具有大規(guī)模應(yīng)用的基礎(chǔ),在工業(yè)級(jí)計(jì)算機(jī)、 PC 的先后推動(dòng)下,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)銷售額呈現(xiàn)出指數(shù)級(jí)別的增長(zhǎng),并于 1995 年突破了 1000 億美元大關(guān),這輪周期中電子、計(jì)算機(jī)等系統(tǒng)中半導(dǎo)體產(chǎn)品價(jià)值占比超過(guò)了 20%。第二輪周期從 2001 年延續(xù)至 2008 年,主要的下游驅(qū)動(dòng)因素是筆記本電腦、 2G、 3G 無(wú)線通信對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)品的需求,這一階段全球半導(dǎo)體銷售額從 1472 億美元增長(zhǎng)到了 2553 億美元,增長(zhǎng)了 73.4%。第三輪周期從 2010 年開(kāi)始,到 2014 年結(jié)束,這一輪周期中半導(dǎo)體的銷售額從 2953 億美元增長(zhǎng)到了 3344 億美元,首次突破了 3000 億美元大關(guān)。這輪周期的主要下游需求推動(dòng)來(lái)自于以智能手機(jī)為代表的移動(dòng)互聯(lián)網(wǎng)產(chǎn)品。2014 年后,智能手機(jī)出貨量趨于平穩(wěn),全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)銷售額也進(jìn)入了穩(wěn)定期, 2015、 2016 年銷售額分別為 3373 億美元、 3347 億美元,同比分別增長(zhǎng) 1.1%、 -0.8%。
全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)歷經(jīng)三輪發(fā)展周期(單位:十億美元)
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2017 年半導(dǎo)體銷售額同比增長(zhǎng)超 20%,全年銷售額將超 4000 億美元,迎來(lái)新一輪景氣周期。從2016 年 8 月開(kāi)始,全球半導(dǎo)體銷售額開(kāi)始重回增長(zhǎng)軌道,月度銷售額同比增速開(kāi)始由負(fù)轉(zhuǎn)正。從2016 年 10 月到 2017 年 10 月,半導(dǎo)體銷售額已連續(xù) 13 個(gè)月超過(guò) 300 億美元,已經(jīng)超過(guò)歷史上的最好水平,不斷創(chuàng)下歷史新高。 2017 年 1-10 月全球半導(dǎo)體銷售總額已經(jīng)達(dá)到 3294 億美元,同比增長(zhǎng) 21%,且月度同比增速呈現(xiàn)上升趨勢(shì),我們預(yù)計(jì) 9-12 月的銷售增速有望繼續(xù)提升。 2016年全球半導(dǎo)體銷售額為全年半導(dǎo)體銷售額為 3389 億美元,今年突破 4000 億美元基本已成定局。
全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)月度銷售額(十億美元)
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行業(yè)景氣向好帶動(dòng)半導(dǎo)體設(shè)備需求重回高增長(zhǎng)區(qū)間。 半導(dǎo)體銷售額與設(shè)備銷售額存在高度同步性,此次半導(dǎo)體行業(yè)的復(fù)蘇伴隨著半導(dǎo)體設(shè)備需求的提升。從 2016 年 10 月開(kāi)始,北美半導(dǎo)體設(shè)備商出貨額開(kāi)始進(jìn)入高增長(zhǎng)區(qū)間, 2017 年 1-10 月總出貨額達(dá)到 211 億美元,同比增長(zhǎng) 41%, 1-6 月同比增長(zhǎng)更是達(dá)到 150%,并且連續(xù) 8 個(gè)月銷售額均超過(guò) 20 億美元,為歷史上的最高水平。
北美半導(dǎo)體設(shè)備商月度出貨額(百萬(wàn)美元)
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國(guó)家不斷出臺(tái)相關(guān)政策,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)支持力度空前。 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè),尤其是集成電路產(chǎn)業(yè), 是信息技術(shù)產(chǎn)業(yè)的核心,是支撐經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展和保障國(guó)家安全的戰(zhàn)略性、基礎(chǔ)性和先導(dǎo)性產(chǎn)業(yè),一直受到國(guó)家的關(guān)注和重點(diǎn)扶持。從 21 世紀(jì)初至今,國(guó)家頒布了一系列的政策來(lái)支持和引導(dǎo)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,支持力度不斷加大,引導(dǎo)路徑逐漸清晰。(1) 4 號(hào)文延續(xù) 10 年行業(yè)支持政策,展現(xiàn)國(guó)家扶持決心。 2000 年 6 月,國(guó)務(wù)院發(fā)布了《關(guān)于印發(fā)鼓勵(lì)軟件產(chǎn)業(yè)和集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的若干政策的通知》 (18 號(hào)文),在審批程序、稅收支持、進(jìn)出口、投融資、人才培養(yǎng)等各方面給予了集成電路行業(yè)重點(diǎn)扶持。該通知在 2011 年到期,隨即國(guó)務(wù)院發(fā)布了《關(guān)于印發(fā)進(jìn)一步鼓勵(lì)軟件產(chǎn)業(yè)和集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展若干政策的通知》 (4 號(hào)文)延續(xù)了各扶持措施,并修正了原 18 號(hào)文中因外力影響導(dǎo)致的 2005 年后集成電路行業(yè)優(yōu)惠力度減小。4 號(hào)文對(duì) 18 號(hào)文的延續(xù)說(shuō)明國(guó)家對(duì)于集成電路產(chǎn)業(yè)的支持的一貫的,展現(xiàn)了國(guó)家支持的決心。
。2) 02 專項(xiàng)扶持國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備生產(chǎn)領(lǐng)軍者。 2008 年,科技部和信產(chǎn)部啟動(dòng)了“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”項(xiàng)目(02 專項(xiàng)),以專項(xiàng)的形式組織了一批國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備公司進(jìn)行了一系列重點(diǎn)工藝和技術(shù)的攻關(guān),包括 45-22 納米關(guān)鍵制造裝備攻關(guān),開(kāi)發(fā) 32-22 納米 CMOS 工藝、 90-65 納米特色工藝,開(kāi)展 20-14 納米前瞻性研究等。通過(guò) 02 專項(xiàng)的扶持國(guó)內(nèi)誕生了北方華創(chuàng)、中微半導(dǎo)體、上海微電子等一批半導(dǎo)體設(shè)備生產(chǎn)領(lǐng)軍者,并形成了 65-45 納米裝備、材料、工藝配套能力及集成電路制造產(chǎn)業(yè)鏈。
。3) 《綱要》發(fā)布,帶來(lái)最大支持力度和最清晰發(fā)展路徑。 2014 年 6 月,國(guó)務(wù)院印發(fā)《國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進(jìn)綱要》 ,為集成電路行業(yè)在重要戰(zhàn)略機(jī)遇期和攻堅(jiān)期的發(fā)展描繪了明確的發(fā)展目標(biāo)!毒V要》提出,到 2020 年集成電路行業(yè)銷售收入要實(shí)現(xiàn) 20%的復(fù)合增長(zhǎng)率; IC 設(shè)計(jì)和 IC封測(cè)領(lǐng)域技術(shù)均達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平; 16/14nm 制程工藝實(shí)現(xiàn)規(guī)模量產(chǎn); 關(guān)鍵裝備和材料進(jìn)入國(guó)際采購(gòu)體系。并在資金、稅收、人才等各領(lǐng)域提供支持!毒V要》是目前國(guó)家發(fā)布的最詳細(xì)、力度最大的支持政策,再次展現(xiàn)了國(guó)家發(fā)展半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的意志。
《綱要》 發(fā)展目標(biāo)及支持
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國(guó)家出臺(tái)了一系列政策支持半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展
2000 年 6 月《關(guān)于印發(fā)鼓勵(lì)軟件產(chǎn)業(yè)和集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的若干政策的通知》在審批程序、稅收支持、進(jìn)出口、投融資、人才培養(yǎng)等各方面給予了集成電路行業(yè)重點(diǎn)扶持。2006 年 2 月《國(guó)家中長(zhǎng)期科學(xué)和技術(shù)發(fā)展規(guī)劃綱要(2006-2020 年)》確定了包括核心電子器件、高端通用芯片及基礎(chǔ)軟件,極大規(guī)模集成電路制造技術(shù)及成套工藝在內(nèi)的 16 個(gè)專項(xiàng)。2011 年 2 月《進(jìn)一步鼓勵(lì)軟件產(chǎn)業(yè)和集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的若干政策》在《鼓勵(lì)軟件業(yè)和集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的若干政策》的基礎(chǔ)上加大了對(duì)重大科技專項(xiàng)的資金支持,鼓勵(lì)和引導(dǎo)社會(huì)資金、金融企業(yè)向該行業(yè)投入,支持企業(yè)引入海外人才,政策惠及整個(gè)集成電路產(chǎn)業(yè)鏈。2011 年 7 月《國(guó)家“十二五”科學(xué)和技術(shù)發(fā)展規(guī)劃》02 專項(xiàng)重點(diǎn)進(jìn)行 45-22 納米關(guān)鍵制造裝備攻關(guān),開(kāi)發(fā) 32-22 納米互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)工藝、 90-65 納米特色工藝,開(kāi)展 22-14 納米前瞻性研究,形成 65-45 納米裝備、材料、工藝配套能力及集成電路制造產(chǎn)業(yè)鏈,進(jìn)一步縮小與世界先進(jìn)水平差距,裝備和材料占國(guó)內(nèi)市場(chǎng)的份額分別達(dá)到 10%和 20%,開(kāi)拓國(guó)際市場(chǎng)。2011 年 12 月《集成電路產(chǎn)業(yè)“十二五”發(fā)展規(guī)劃》到“十二五”末,產(chǎn)業(yè)規(guī)模至少再翻一番,形成一批具有國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力的企業(yè),基本建立以企業(yè)為主體的產(chǎn)學(xué)研用相結(jié)合的技術(shù)創(chuàng)新體系;專用集成電路設(shè)備、儀器及材料:關(guān)鍵設(shè)備達(dá)到 12 英寸、 32 納米工藝水平; 12 英寸硅單晶和外延片實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),關(guān)鍵材料在芯片制造工藝中得到應(yīng)用,并取得量產(chǎn)。2014 年 6 月《國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進(jìn)綱要》加強(qiáng)集成電路裝備、材料與工藝的結(jié)合,研發(fā)光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、離子注入機(jī)等關(guān)鍵設(shè)備,開(kāi)發(fā)光刻膠、大尺寸硅片等關(guān)鍵材料,加強(qiáng)集成電路制造企業(yè)和裝備、材料企業(yè)的協(xié)作,加快產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程,增強(qiáng)產(chǎn)業(yè)配套能力。2015 年 5 月《中國(guó)制造 2025》著力提升集成電路設(shè)計(jì)水平,不斷豐富知識(shí)產(chǎn)權(quán)(IP)核和設(shè)計(jì)工具,突破關(guān)系國(guó)家信息與網(wǎng)絡(luò)安全及電子整機(jī)產(chǎn)業(yè)發(fā)展的核心通用芯片,提升國(guó)產(chǎn)芯片的應(yīng)用適配能力。掌握高密度封裝及三維(3D)微組裝技術(shù),提升封裝產(chǎn)業(yè)和測(cè)試的自主發(fā)展能力。形成關(guān)鍵制造裝備供貨能力。數(shù)據(jù)來(lái)源:公開(kāi)資料整理
大基金籌資超千億支持集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展。 《國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進(jìn)綱要》提出建立國(guó)家產(chǎn)業(yè)投資基金, 吸引大型企業(yè)、金融機(jī)構(gòu)以及社會(huì)資金,重點(diǎn)支持集成電路等產(chǎn)業(yè)發(fā)展。 2014 年 9月, 國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金(大基金)正式成立,計(jì)劃籌資 1000 億元,實(shí)際籌資 1387 億元。大基金的投資總期限將達(dá)十五年,投資期(2014-2019)、回收期(2019-2024)、展期(2024-2029)各五年。不同于國(guó)家直接對(duì)半導(dǎo)體企業(yè)進(jìn)行補(bǔ)貼的模式,大基金通過(guò)資金入股的方式對(duì)企業(yè)進(jìn)行資金支持,雖不直接參與公司運(yùn)作,但仍起到監(jiān)督和監(jiān)管的作用,促使企業(yè)合理使用投資金額,將資金用于技術(shù)的研發(fā)和創(chuàng)新,產(chǎn)品的研發(fā)和推廣上,相對(duì)于傳統(tǒng)的補(bǔ)貼模式,大基金模式勢(shì)必使資金具有更高的使用效率。截止 2017 年 9 月底,大基金已累計(jì)決策投資 55 個(gè)項(xiàng)目,涉及 40 家集成電路企業(yè),共承諾出資1003 億元,實(shí)際出資 653 億元。 大基金的投資涵蓋集成電路產(chǎn)業(yè)的各個(gè)環(huán)節(jié),其中 IC 制造是投資額最高、最為集中的環(huán)節(jié),占到承諾投資的 65%。 IC 設(shè)計(jì)、 IC 封測(cè)、裝備材料領(lǐng)域則分別占17%、 10%、 8%。 雖然設(shè)備企業(yè)占投資比例較少,但是行業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的設(shè)備企業(yè),包括北方華創(chuàng)、長(zhǎng)川科技、中微半導(dǎo)體、沈陽(yáng)拓荊等都得到了大基金的投資。
大基金投資的部分項(xiàng)目
類別投資企業(yè)投資金額(億)設(shè)計(jì)珠海艾派克微電子有限公司5國(guó)科微電子股份有限公司4北京北斗星通導(dǎo)航技術(shù)股份有限公司15深圳市中興微電子技術(shù)有限公司24盛科網(wǎng)絡(luò)(蘇州)有限公司2.5深圳國(guó)微技術(shù)有限公司承諾投資制造紫光集團(tuán)有限公司100中芯國(guó)際集成電路制造有限公司27三安光電股份有限公司43.391杭州士蘭微電子股份有限公司6長(zhǎng)江存儲(chǔ)科技有限公責(zé)任公司承諾投資中芯國(guó)際集成電路制造(北京)有限公司43封測(cè)江蘇長(zhǎng)電科技股份有限公司20.31華天科技(西安)有限公司5中芯長(zhǎng)電半導(dǎo)體(江陰)有限公司10.83南通富士通微電子股份有限公司2.7設(shè)備中微半導(dǎo)體設(shè)備有限公司4.8杭州長(zhǎng)川科技股份有限公司0.06沈陽(yáng)拓荊科技有限公司1.65北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司6睿勵(lì)科學(xué)儀器(上海)有限公司承諾投資材料江蘇鑫華半導(dǎo)體材料科技有限公司5安集微電子科技(上海)有限公司0.05煙臺(tái)德邦科技有限公0.22江蘇中能集團(tuán)有限公司承諾投資基金公司北京制造和裝備子基金公司10.05巽鑫(上海)投資有限公司100北京集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金10北京芯動(dòng)能投資管理有限公司15芯鑫融資租賃有限責(zé)任公司20上海市硅產(chǎn)業(yè)投資有限公司7福建安芯產(chǎn)業(yè)投資基金25中芯聚源股權(quán)投資管理(上海)有限公司0.02北京山海昆侖資本承諾投資蘇州元禾控股股份有限公司承諾投資數(shù)據(jù)來(lái)源:公開(kāi)資料整理
大基金投資以 IC 制造為主
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大基金的成立同時(shí)撬動(dòng)了一批地方產(chǎn)業(yè)基金, 截止到 2017 年上半年,全國(guó)成立了二十余支集成電路地方產(chǎn)業(yè)基金,主要用于支持地方集成電路企業(yè)的發(fā)展,培育一批符合產(chǎn)業(yè)發(fā)展方向的標(biāo)桿企業(yè)。據(jù)不完全統(tǒng)計(jì),集成電路地方產(chǎn)業(yè)基金募資總規(guī)模已經(jīng)達(dá)到 3600 億,加上大基金,全國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)基金規(guī)模達(dá)到 5000 億。目前第二期的大基金正在籌劃中,預(yù)計(jì)籌資額將達(dá)到 1500-2000 億元,加上對(duì)地方產(chǎn)業(yè)基金的撬動(dòng),全國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)基金總規(guī)模有望超過(guò) 1 億美元。第二期的大基金預(yù)計(jì)會(huì)將投資重點(diǎn)轉(zhuǎn)移至IC 設(shè)計(jì)領(lǐng)域,并加大 IC 封測(cè)、裝備材料領(lǐng)域的投資力度。
地方集成電路產(chǎn)業(yè)基金
北京2013.1300集成電路設(shè)計(jì)、制造、封裝、測(cè)試、核心裝備等關(guān)鍵環(huán)節(jié)天津2014.22 億/年集成電路設(shè)計(jì)產(chǎn)業(yè)安徽2014.12.5半導(dǎo)體和電子信息產(chǎn)業(yè)廣東2015.75 億/年市級(jí)實(shí)驗(yàn)室、重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室、工程研究中心等研發(fā)江蘇2015.710集成電路設(shè)計(jì)、芯片生產(chǎn)線、先進(jìn)封裝測(cè)試湖北2015.8300集成電路制造,兼顧設(shè)計(jì)、封裝等上下游產(chǎn)業(yè)鏈深圳2015.1200儲(chǔ)存器合肥2015.1100集成電路產(chǎn)業(yè)貴州2015.118集成電路產(chǎn)業(yè)上海2016.1500100 億元設(shè)計(jì)并購(gòu)基金, 100 億元裝備材料業(yè)基金, 300 億元制造業(yè)基金廈門2016.3160培育一批符合廈門產(chǎn)業(yè)發(fā)展方向的標(biāo)桿企業(yè)湖南2016.350集成電路產(chǎn)業(yè)四川2016.3100-120扶持壯大四川優(yōu)勢(shì)的集成電路相關(guān)產(chǎn)業(yè)遼寧2016.5100集成電路產(chǎn)業(yè)廣東2016.6150集成電路設(shè)計(jì)、制造、封測(cè)及材料裝備等產(chǎn)業(yè)鏈重大和創(chuàng)新項(xiàng)目陜西2016.8300集成電路制造、封裝、測(cè)試、核心裝備等產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵環(huán)節(jié)的重點(diǎn)項(xiàng)目投資南京2016.1500-600推動(dòng)南京集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展無(wú)錫2017.1200重點(diǎn)聚焦、培育若干個(gè)國(guó)內(nèi)外知名的集成電路龍頭企業(yè),扶持一批中小集成電路企業(yè)昆山2017.2100引導(dǎo)社會(huì)資本、產(chǎn)業(yè)資本和金融資本等投向集成電路產(chǎn)業(yè)安徽2017.5300重點(diǎn)投資集成電路晶圓制造、設(shè)計(jì)、封測(cè)、裝備材料等全產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域數(shù)據(jù)來(lái)源:公開(kāi)資料整理
中國(guó)大陸將迎來(lái)晶圓產(chǎn)線建設(shè)高峰期。2017-2020 年間,全球?qū)⒂?62 座新建晶圓廠投入營(yíng)運(yùn)。這 62 座晶圓廠中,只有 7 座是研發(fā)用的晶圓廠,其他晶圓廠都是量產(chǎn)型廠房。以地理區(qū)來(lái)看,中國(guó)大陸在這段期間將有 26 座新的晶圓廠投入營(yíng)運(yùn),占新增晶圓廠的比重高達(dá) 42%。美國(guó)則有 10 座,臺(tái)灣為 9 座。按照晶圓廠生產(chǎn)的產(chǎn)品型態(tài)來(lái)看, 32%的新增晶圓產(chǎn)能將用做晶圓代工、 21%為存儲(chǔ)。
已開(kāi)工產(chǎn)線帶來(lái)超 4000 億元設(shè)備需求, 2018、 2019 是需求高峰年。 目前已統(tǒng)計(jì)到有 17 座晶圓廠已經(jīng)開(kāi)工建設(shè),晶圓廠的建設(shè)周期達(dá)到 2-3 年,其中廠房封頂需要約 1.5 年時(shí)間,生產(chǎn)設(shè)備在廠房封頂后開(kāi)始進(jìn)入。根據(jù)已開(kāi)工晶圓廠的建設(shè)周期和投資額,我們預(yù)計(jì)這 17 座晶圓廠將在2017-2019 年間帶來(lái) 4121 億元的半導(dǎo)體設(shè)備投資需求, 需求主要集中在 2018 年,達(dá)到 2274 億,2019 年則達(dá)到 1059 億。 隨著其余規(guī)劃中晶圓廠的陸續(xù)投建, 2018-2020 年間的半導(dǎo)體設(shè)備需求將進(jìn)一步提升,我們預(yù)計(jì)半導(dǎo)體設(shè)備的需求高峰將集中在 2018、 2019 年。各類設(shè)備中,光刻機(jī)所占份額最大,預(yù)計(jì)達(dá) 30%,對(duì)應(yīng) 1264 億的市場(chǎng)空間?涛g設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備占比約 20%,均對(duì)應(yīng) 843 億空間, 以上三類設(shè)備占到總設(shè)備需求的 70%。 檢測(cè)設(shè)備、清洗設(shè)備、其他設(shè)備各自對(duì)應(yīng) 421、 337、 506 億空間。
02 專項(xiàng)培育了一批國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)軍者。 02 專項(xiàng)組織了一批國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備公司進(jìn)行了一系列重點(diǎn)工藝和技術(shù)的攻關(guān),攻關(guān)領(lǐng)域涵蓋光刻機(jī)、 PVD、 CVD、離子注入機(jī)、清洗機(jī)、檢測(cè)設(shè)備等各類半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備,并以此培育了一批具有先進(jìn)生產(chǎn)技術(shù)和自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè),包括北方華創(chuàng)、中電科、沈陽(yáng)拓荊、上海微電子、中微半導(dǎo)體等。
部分 02 專項(xiàng)設(shè)備企業(yè)
北方華創(chuàng)刻蝕機(jī)、 PVD、 CVD、氧化爐、清洗機(jī)2001(2016 年整合)中電科離子注入機(jī)、分選機(jī)、鍵合機(jī)、減薄機(jī)、清洗機(jī)2013(整合)沈陽(yáng)拓荊PECVD、 ALD 等沉積設(shè)備2010沈陽(yáng)芯源勻膠機(jī)、顯影機(jī)、清洗機(jī)、刻蝕機(jī)、去膠機(jī)2002華海清科化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)、膜厚檢測(cè)機(jī)2013中微半導(dǎo)體介質(zhì)刻蝕機(jī)、硅刻蝕機(jī)2002上海微電子光刻機(jī)、鍵合設(shè)備2003盛美半導(dǎo)體化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)、清洗機(jī)1998數(shù)據(jù)來(lái)源:公開(kāi)資料整理
國(guó)產(chǎn)設(shè)備已在 8、 12 英寸產(chǎn)線實(shí)現(xiàn)批量應(yīng)用。 在 02 專項(xiàng)、產(chǎn)業(yè)大基金的支持和培育下,我國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備生產(chǎn)企業(yè)已經(jīng)取得了一系列技術(shù)和產(chǎn)品的突破,多項(xiàng)專項(xiàng)項(xiàng)目結(jié)項(xiàng),多種類、多型號(hào)半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備研發(fā)成功, 且包括刻蝕機(jī)、薄膜沉積設(shè)備、清洗機(jī)等在內(nèi)的關(guān)鍵半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備已在65-28nm 制程晶圓產(chǎn)線上實(shí)現(xiàn)了批量應(yīng)用,成為中芯國(guó)際等晶圓生產(chǎn)廠商的 baseline 機(jī)臺(tái), 說(shuō)明國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備已有進(jìn)入主流晶圓生產(chǎn)線供貨體系的能力。此外多項(xiàng) 14nm 制程設(shè)備也開(kāi)始進(jìn)入生產(chǎn)線進(jìn)行工藝驗(yàn)證,有望在未來(lái)兩年內(nèi)進(jìn)入產(chǎn)線。對(duì)于大陸半導(dǎo)體設(shè)備廠商來(lái)說(shuō),除光刻機(jī)目前只能滿足 90nm 制程芯片生產(chǎn),難以進(jìn)入新建產(chǎn)線設(shè)備需求外, 其他設(shè)備基本都已滿足晶圓產(chǎn)線的量產(chǎn)需求。由于地理上的優(yōu)勢(shì),國(guó)產(chǎn)設(shè)備商在與晶圓生產(chǎn)商在合作進(jìn)行設(shè)備的開(kāi)發(fā)和驗(yàn)證上有巨大的便利性,且國(guó)產(chǎn)設(shè)備在性價(jià)比和售后服務(wù)上有更強(qiáng)的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì),疊加國(guó)家對(duì)于半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化的政策指引,國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備生產(chǎn)商有望借助中國(guó)大陸晶圓產(chǎn)線的密集投建實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)設(shè)備滲透率的快速提升,同時(shí)迎來(lái)自身業(yè)績(jī)的高速爆發(fā)期。
部分國(guó)產(chǎn) 12 英寸半導(dǎo)體設(shè)備已在生產(chǎn)線上實(shí)現(xiàn)了批量應(yīng)用
1介質(zhì)刻蝕機(jī)中微半導(dǎo)體65-28nm已采購(gòu)>502硅刻蝕機(jī)北方華創(chuàng)65-28nm已采購(gòu)>203PVD 設(shè)備北方華創(chuàng)65-28nm已采購(gòu)>204單片退火設(shè)備北方華創(chuàng)65-28nm已采購(gòu)>205清洗設(shè)備北方華創(chuàng)65-28nm已采購(gòu)>206清洗機(jī)上海盛美65-28nm已采購(gòu)>207立式爐北方華創(chuàng)65-28nm已采購(gòu)>108離子注入機(jī)北京中科信65-28nm已采購(gòu)>109光學(xué)尺寸測(cè)量設(shè)備睿勵(lì)科學(xué)儀器65-28nm已采購(gòu)>1010PECVD 設(shè)備沈陽(yáng)拓荊65-28nm已采購(gòu)>1011光罩清洗設(shè)備瑞擇微電子90nm已采購(gòu)>1012化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備天津華海清科已采購(gòu)>50數(shù)據(jù)來(lái)源:公開(kāi)資料整理
已進(jìn)入產(chǎn)線進(jìn)行驗(yàn)證的 14nm 設(shè)備
1硅刻蝕機(jī)北方華創(chuàng)STI ETCH2HM PVD 設(shè)備北方華創(chuàng)HM DEP3單片退火設(shè)備北方華創(chuàng)Anneal4LPCVD北方華創(chuàng)SiO2 Film Deposition5Al PVD 設(shè)備北方華創(chuàng)Al DEP6ALD北方華創(chuàng)Hi-K insulator7介質(zhì)刻蝕機(jī)中微半導(dǎo)體AIO ETCH、 PASS ETCH8光學(xué)尺寸測(cè)量設(shè)備睿勵(lì)科學(xué)儀器Film Thickness/OCD9清洗機(jī)上海盛美Wafer recycle數(shù)據(jù)來(lái)源:公開(kāi)資料整理
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