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SEMICON 2024圓滿落幕! 快來(lái)認(rèn)識(shí)頗爾令人振奮的產(chǎn)品解決方案
2024/4/8 17:57:22 來(lái)源:中國(guó)產(chǎn)業(yè)發(fā)展研究網(wǎng) 【字體:大 中 小】【收藏本頁(yè)】【打印】【關(guān)閉】
核心提示:2024年3月20-22日,頗爾中國(guó)在上海新國(guó)際博覽中心N4場(chǎng)館#4471號(hào)為期三天的 SEMICON 2024展覽閃耀亮相。這場(chǎng)展會(huì)匯聚了1100多家半導(dǎo)體展商,現(xiàn)場(chǎng)人頭攢動(dòng), 成為業(yè)界的焦點(diǎn)。2024年3月20-22日,頗爾中國(guó)在上海新國(guó)際博覽中心N4場(chǎng)館#4471號(hào)為期三天的 SEMICON 2024展覽閃耀亮相。這場(chǎng)展會(huì)匯聚了1100多家半導(dǎo)體展商,現(xiàn)場(chǎng)人頭攢動(dòng), 成為業(yè)界的焦點(diǎn)。頗爾微電子全球副總裁Dasent Shangaza,頗爾中國(guó)總經(jīng)理陳淮,頗爾微電子全球營(yíng)銷(xiāo)副總裁Soni Ankush,頗爾中國(guó)微電子事業(yè)部總經(jīng)理陳磊等頗爾高層共同出席本次展會(huì),為來(lái)賓介紹公司的宗旨和產(chǎn)品策略,耐心解答各類問(wèn)題。在展臺(tái)前,新老客戶紛紛駐足,一同分享市場(chǎng)最前沿的信息,架起了一道交流的橋梁。
作為過(guò)濾、分離和純化解決方案的專家, 頗爾(PALL)非常榮幸地在現(xiàn)場(chǎng)展示了適用于工藝氣體、研磨液、濕式蝕刻化學(xué)品、溶劑、光阻和其他工藝消耗品的過(guò)濾產(chǎn)品,到場(chǎng)的觀眾可以近距離感受頗爾產(chǎn)品工藝的精湛之處。我們深知在半導(dǎo)體行業(yè),對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量和工藝的精益求精至關(guān)重要。
同時(shí),在線上,我們通過(guò)直播的形式為大家?guī)?lái)了一場(chǎng)酣暢淋漓的知識(shí)與技術(shù)的分享。我們的專家將與觀眾互動(dòng),解答問(wèn)題,分享行業(yè)趨勢(shì)和最佳實(shí)踐。
Litho-光刻應(yīng)用產(chǎn)品系列
-去除光刻膠中的顆粒及膠體,尼龍和HDPE不同材質(zhì)適合不同應(yīng)用場(chǎng)景
-減少Litho工藝中缺陷的產(chǎn)生
-Litho filter具有高精度,高潔凈度,低金屬離子析出,低有機(jī)物析出及低壓損的特點(diǎn)
WET應(yīng)用產(chǎn)品系列
-優(yōu)良的化學(xué)兼容性,適合苛刻的應(yīng)用條件
-高精度,高流量,高清潔度,低金屬離子和低有機(jī)物析出
CMP應(yīng)用產(chǎn)品系列
-漸變孔徑分布,高攔截效率,不改變研磨顆粒的粒徑分布
-高納污量,高壽命,低壓損
-減少scratch缺陷產(chǎn)生
氣體過(guò)濾
-可用于過(guò)濾≥3nm的工藝氣體
-適用于不同溫度,不同流量,不同點(diǎn)位的各種反應(yīng)氣體,干燥空氣的過(guò)濾
Profile ll®熔噴過(guò)濾器產(chǎn)品系列
高效絕對(duì)精度深層熔噴濾芯,采用Pall頗爾專業(yè)生產(chǎn)技術(shù),可實(shí)現(xiàn)99.98%過(guò)濾效率。同時(shí)專業(yè)的工藝,連續(xù)變化的孔隙結(jié)構(gòu)、范圍廣泛的孔徑與濾芯的深度共同實(shí)現(xiàn)了濾芯的卓越使用壽命,可以延長(zhǎng)濾芯多達(dá)六倍使用壽命。
Gaskleen®氣體過(guò)濾產(chǎn)品系列
頗爾Gaskleen®頂部安裝式過(guò)濾器組件,非常適合用于集成氣體輸送系統(tǒng),并且易于在安裝基板上進(jìn)行檢修和更換。該組件可在高達(dá)100slpm流速下工作,可用于多種接口。
Gaskleen®6101系列采用PFA濾芯,精度≥3nm,緊湊型設(shè)計(jì),進(jìn)出口不同大小和連接形式,大膜面積設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)低壓差,高流量,在半導(dǎo)體行業(yè)廣泛應(yīng)用。
關(guān)于新加坡工廠
很高興可以借SEMICON 2024 的機(jī)會(huì)與您分享 PALL 即將在新加坡建設(shè)一家新工廠的消息。 這座新工廠將配備先進(jìn)的技術(shù), 產(chǎn)品主要服務(wù)于光刻和濕法蝕刻應(yīng)用的過(guò)濾和純化需求,它將促進(jìn)lithography和 wet-etch的進(jìn)一步發(fā)展。
通過(guò)在新加坡和筑波進(jìn)行大規(guī)模投資, Pall 將能夠更好地滿足不斷增長(zhǎng)的半導(dǎo)體客戶需求,鑄造更加穩(wěn)定的供應(yīng)鏈和更加高質(zhì)量的產(chǎn)品。
SEMICON 2024雖已落幕
頗爾的精彩未完待續(xù)
期待SEMICON 2025
與您再見(jiàn)
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